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[해외논문] Traceable thickness measurement of ultra-thin HfO2 films by medium-energy ion scattering spectroscopy

Metrologia, v.57 no.2, 2020년, pp.025001 -   

Kim, Kyung Joong (Division of Industrial Metrology, Korea Research Institute of Science and Standards, Daejeon 34113, Republic of Korea) ,  Kim, Tae Gun (Division of Industrial Metrology, Korea Research Institute of Science and Standards, Daejeon 34113, Republic of Korea) ,  Kwon, Ji-Hwan (Division of Industrial Metrology, Korea Research Institute of Science and Standards, Daejeon 34113, Republic of Korea) ,  Ruh, Hyun (Division of Industrial Metrology, Korea Research Institute of Science and Standards, Daejeon 34113, Republic of Korea) ,  Park, Kyungsu (K-MAC, Techno 8-ro 33, Yuseong, Daejeon 34028, Republic of Korea) ,  Min, Won Ja (K-MAC, Techno 8-ro 33, Yuseong, Daejeon 34028, Republic of Korea)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The thicknesses of a series of ultra-thin HfO2 films were precisely determined by mutual calibration by x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and x-ray reflectometry (XRR) in the recent Consultative Committee for Amount of Substance (CCQM) pilot study P-190. From these well-defined reference film t...

참고문헌 (21)

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