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NTIS 바로가기Thin solid films, v.383 no.1/2, 2001년, pp.206 - 208
Koynov, S. (Departamento de Fisica, Instituto Superior Tè) , Tzolov, M. (cnico, Av. Rovisco Pais 1, 1096 Lisboa, Portugal) , Brogueira, P. (CL SENES-Bulgarian Academy of Sciences, Boul. Tzarigradsko Shousee 72, 1784 Sofia, Bulgaria) , Schwarz, R. (CL SENES-Bulgarian Academy of Sciences, Boul. Tzarigradsko Shousee 72, 1784 Sofia, Bulgaria)
AbstractA new plasma enhanced chemical vapour deposition (CVD) technique, referred to as closed chamber CVD (CC-CVD), is presented. It is based on a process, which alternates the deposition of an ultra-thin layer and modification at equilibrium conditions within a temporarily closed reactor chamber....
J. Non-Cryst. Sol. Tsai 114 151 1989 10.1016/0022-3093(89)90096-3
Sol. St. Phenomena Keppner 44-46 97 1995 10.4028/www.scientific.net/SSP.44-46.97
J. Non-Cryst. Sol. Scheib 198-200 895 1996 10.1016/0022-3093(96)00078-6
J. Appl. Phys. Matsuda 60 4025 1986 10.1063/1.337528
J. Non-Cryst. Sol. Asano 114 175 1989 10.1016/0022-3093(89)90104-X
Jpn. J. Appl. Phys. Koynov 33 4534 1994 10.1143/JJAP.33.4534
S. Koynov, M. Tzolov, R. Schwarz, submitted to Advanced Materials - supplement CVD
Thin Solid Films Sieber 276 314 1996 10.1016/0040-6090(95)08106-2
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