[논문]Closed-chamber CVD — a new method for preparation of group-IV thin films for large area electronics

doi:10.1016/S0040-6090(00)01797-1

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[해외논문] Closed-chamber CVD — a new method for preparation of group-IV thin films for large area electronics

Thin solid films, v.383 no.1/2, 2001년, pp.206 - 208

Koynov, S. (Departamento de Fisica, Instituto Superior Tè) , Tzolov, M. (cnico, Av. Rovisco Pais 1, 1096 Lisboa, Portugal) , Brogueira, P. (CL SENES-Bulgarian Academy of Sciences, Boul. Tzarigradsko Shousee 72, 1784 Sofia, Bulgaria) , Schwarz, R. (CL SENES-Bulgarian Academy of Sciences, Boul. Tzarigradsko Shousee 72, 1784 Sofia, Bulgaria)

Abstract ▼ AI-Helper

AbstractA new plasma enhanced chemical vapour deposition (CVD) technique, referred to as closed chamber CVD (CC-CVD), is presented. It is based on a process, which alternates the deposition of an ultra-thin layer and modification at equilibrium conditions within a temporarily closed reactor chamber. Results on the preparation of highly crystalline μc-Si:H films at an increased growth rate are presented. An emphasis is given to the specific opportunities of CC-CVD to control the structural details of the μc-Si/H material. Efficient p-type doping of ultra-thin μc-Si:H layers was also demonstrated. Phase-pure a-SiC/H films — with carbon dominantly bonded in a Si–C configuration — are also prepared by CC-CVD. They simultaneously have a large band gap and a high conductivity. Because of the enhanced capability of CC-CVD to control the structure of the deposited films, it is an appropriate technique for the synthesis of various Si-based thin film materials for application in large area electronics.

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참고문헌 (8)

J. Non-Cryst. Sol. Tsai 114 151 1989 10.1016/0022-3093(89)90096-3

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Sol. St. Phenomena Keppner 44-46 97 1995 10.4028/www.scientific.net/SSP.44-46.97

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J. Non-Cryst. Sol. Scheib 198-200 895 1996 10.1016/0022-3093(96)00078-6

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J. Appl. Phys. Matsuda 60 4025 1986 10.1063/1.337528

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J. Non-Cryst. Sol. Asano 114 175 1989 10.1016/0022-3093(89)90104-X

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Jpn. J. Appl. Phys. Koynov 33 4534 1994 10.1143/JJAP.33.4534

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S. Koynov, M. Tzolov, R. Schwarz, submitted to Advanced Materials - supplement CVD
Thin Solid Films Sieber 276 314 1996 10.1016/0040-6090(95)08106-2

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