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[해외논문] Improved Self-Curing Effect in a MOSFET With Gate Biasing

IEEE electron device letters : a publication of the IEEE Electron Devices Society, v.42 no.12, 2021년, pp.1731 - 1734  

Lee, Geon-Beom (Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST), School of Electrical Engineering, Daejeon, South Korea) ,  Jung, Jin-Woo (Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST), School of Electrical Engineering, Daejeon, South Korea) ,  Kim, Choong-Ki (SK Hynix Inc., Icheon-si, South Korea) ,  Bang, Tewook (SK Hynix Inc., Icheon-si, South Korea) ,  Yoo, Min-Soo (SK Hynix Inc., Icheon-si, South Korea) ,  Choi, Yang-Kyu (Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST), School of Electrical Engineering, Daejeon, South Korea)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Stress-induced damage in a MOSFET can be cured by Joule heating, which can be produced by an intentional forward junction current ( ${I}_{\textbf {FWD}}$). This curing effect can be further enhanced by the simultaneous application of gate biasing, which does not influence the ${I}_{\...

참고문헌 (16)

  1. Park, Jun-Young, Yun, Dae-Hwan, Choi, Yang-Kyu. Curing of Hot-Carrier Induced Damage by Gate-Induced Drain Leakage Current in Gate-All-Around FETs. IEEE electron device letters : a publication of the IEEE Electron Devices Society, vol.40, no.12, 1909-1912.

  2. Jun-Young Park, Dong-Il Moon, Myeong-Lok Seol, Choong-Ki Kim, Chang-Hoon Jeon, Hagyoul Bae, Tewook Bang, Yang-Kyu Choi. Self-Curable Gate-All-Around MOSFETs Using Electrical Annealing to Repair Degradation Induced From Hot-Carrier Injection. IEEE transactions on electron devices, vol.63, no.3, 910-915.

  3. Ragnarsson, Lars-Åke, Lundgren, Per. Electrical characterization of Pb centers in (100)Si-SiO2 structures: The influence of surface potential on passivation during post metallization anneal. Journal of applied physics, vol.88, no.2, 938-942.

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  5. Ghibaudo, G., Roux, O., Nguyen-Duc, Ch., Balestra, F., Brini, J.. Improved Analysis of Low Frequency Noise in Field-Effect MOS Transistors. Physica status solidi. A, Applied research, vol.124, no.2, 571-581.

  6. 10.1007/978-1-4020-5910-0 

  7. Atlas user’s manual device simulation software 2008 

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  13. Mulaosmanovic, Halid, Breyer, Evelyn T., Mikolajick, Thomas, Slesazeck, Stefan. Recovery of Cycling Endurance Failure in Ferroelectric FETs by Self-Heating. IEEE electron device letters : a publication of the IEEE Electron Devices Society, vol.40, no.2, 216-219.

  14. Lee, Geon-Beom, Kim, Choong-Ki, Yoo, Min-Soo, Choi, Yang-Kyu. Low-Frequency Noise Characteristics Under the OFF-State Stress. IEEE transactions on electron devices, vol.67, no.10, 4366-4371.

  15. IEEE Trans Electron Devices Hot-electron-induced MOSFET degradation—Model, monitor, and improvement hu 1985 ed 32 375 

  16. Park, Jun-Young, Hur, Jae, Choi, Yang-Kyu. Demonstration of a Curable Nanowire FinFET Using Punchthrough Current to Repair Hot-Carrier Damage. IEEE electron device letters : a publication of the IEEE Electron Devices Society, vol.39, no.2, 180-183.

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