최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기Plasma sources science & technology, v.29 no.12, 2020년, pp.125014 -
Kim, S J , Lee, J J , Lee, Y S , Kim, D W , You, S J
AbstractThe cutoff probe (CP), which precisely measures electron density from a microwave transmission (S21) spectrum, has been successfully developed through physical models under the assumption of homogeneous plasma between the probe tips. In practice, however, the chamber and sheath structure, fl...
J. Vac. Sci. Technol. B Gaboriau 10.1116/1.1495502 20 1514 2002
Radiat. Eff. Defects Solids Gopikishan 10.1080/10420150.2016.1267734 171 999 2016
Appl. Phys. Lett. Kim 10.1063/1.1632026 83 2003
Appl. Phys. Lett. Ashby 10.1063/1.1723556 3 13 1963
Appl. Phys. Lett. Belostotskiy 10.1063/1.2939437 92 8 2008
Plasma Sources Sci. Technol. Dine 10.1088/0963-0252/14/4/017 14 777 2005
Phys. Plasmas Hopkins 10.1063/1.4874321 21 2014
J. Appl. Phys. Piejak 10.1063/1.1652247 95 3785 2004
Phys. Plasmas Blackwell 10.1063/1.2039627 12 2005
Plasma Sources Sci. Technol. Kim 10.1088/0963-0252/25/3/035026 25 2016
Rev. Sci. Instrum. Kim 10.1063/1.1793211 75 3368 2004
Phys. Plasmas You 10.1063/1.4951029 23 2016
J. Vac. Sci. Technol. A Nakamura 10.1116/1.1532740 21 325 2003
Japan. J. Appl. Phys. Kokura 10.1143/jjap.38.5262 38 5262 1999
Appl. Phys. Lett. Lapke 10.1063/1.2966351 93 2008
IEEE Sens. J. Schulz 10.1109/jsen.2014.2333659 14 10 2014
Phys. Plasmas Ford 10.1063/1.5065509 26 2019
Rev. Sci. Instrum. Stenzel 10.1063/1.1134487 47 5 1976
Japan. J. Appl. Phys. Sugai 10.7567/1347-4065/ab1a43 58 2019
Plasma Sources Sci. Technol. Sirse 10.1088/0963-0252/24/2/022001 24 2015
Phys. Plasmas Seo 10.1063/1.4996220 24 2017
Phys. Plasmas Kim 10.1063/1.4947222 23 2016
Phys. Plasmas Kim 10.1063/1.4945640 23 2016
Phys. Plasmas You 10.1063/1.4943876 23 2016
J. Appl. Phys. Kwon 10.1063/1.3586561 110 2011
Rev. Sci. Instrum. Na 10.1063/1.3680103 83 2012
Thin Solid Films Kim 10.1016/j.tsf.2012.11.049 547 280 2013
Appl. Phys. Lett. Kim 10.1063/1.3634022 99 2011
Plasma Sources Sci. Technol. Kim 10.1088/1361-6595/ab1dc8 28 2019
Plasma Sources Sci. Technol. Stewart 10.1088/0963-0252/4/1/005 4 36 1995
Thin Solid Films Lee 10.1016/s0040-6090(03)00373-0 435 275 2003
IEEE Trans. Plasma Sci. Kim 10.1109/tps.2014.2334735 42 10 2014
Lieberman 2005
Plasma Sources Sci. Technol. Hollenstein 10.1088/0963-0252/22/5/055021 22 05021 2013
Plasma Sources Sci. Technol. Sansonnens 10.1088/0963-0252/6/2/010 6 170 1997
Plasma Sources Sci. Technol. Liu 10.1088/1361-6595/aaa86e 27 2018
J. Korean Phys. Soc. Jang 10.3938/jkps.55.1869 55 5 2009
Phys. Plasmas Sternberg 10.1063/1.4990397 24 2017
Appl. Phys. Lett. Kim 10.1063/1.4729442 100 2012
Phys. Plasmas Godyak 10.1063/1.4823075 20 2013
Chen 1984
Plasma Sources Sci. Technol. Kim 10.1088/1361-6595/aa5fe7 26 2017
J. Appl. Phys. Hong 10.1063/1.4986495 121 2017
해당 논문의 주제분야에서 활용도가 높은 상위 5개 콘텐츠를 보여줍니다.
더보기 버튼을 클릭하시면 더 많은 관련자료를 살펴볼 수 있습니다.
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.