[논문]Sputter-deposited PtAl2O3 graded cermet selective absorber coatings

Thornton, J.A.; Lamb, J.L.

doi:10.1016/0165-1633(84)90016-9

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Sputter-deposited PtAl2O3 graded cermet selective absorber coatings

Solar energy materials, v.9 no.4, 1984년, pp.415 - 431

Thornton, J.A. , Lamb, J.L.

Abstract ▼ AI-Helper

Pt@?Al2O3 cermet selective absorber coatings with graded Pt compositions have been deposited by co-sputtering from Pt and Al2O3 sources. Both direct rf sputtering from an alumina target and reactive sputtering from an aluminum target in an Ar/O2 working gas, were investigated for depositing the Al2O3 component of the coatings. The substrate were glass and stainless steel plates. Sputtered coatings of Pt, Mo, Cr, Ta, W and ZrB2 were used as low emittance base layers. Experiments are reported which explored the dependence of the coating optical properties on the cermet layer thickness and Pt content, and on the aluminum oxide antireflection layer thickness. Hemispherical absorptances as high as 0.97, with room temperature emittances in the 0.06 to 0.08 range, have been achieved. The coatings with rf-sputtered Al2O3, and Pt low emittance base layers, underwent no changes in optical properties after being heated to 600oC in air for as long as 2000 h. These coatings therefore exhibit the same remarkable thermal stability that was originally reported by the Cornell University group for evaporated Pt@?Al2O3 coatings. The coatings with reactive sputtered aluminum oxidem or alternate base layers such as ZrB2, exhibited somewhat reduced thermal stability but should be adequate for intermediate temperature applications (up to 400oC in air).

참고문헌 (16)

Hahn vol. 10 1 1978
Agnihotri 1981 Solar Selective Surfaces
Herzenberg Vol. 324 92 1982
Graighead 1980
Solar Energy Mater. Craighead 1 105 1979 10.1016/0165-1633(79)90061-3

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Thornton 170 1982 Deposition Technology (Films and Coatings)
Plating Surface Finishing Thornton 67 48 1980
Thin Solid Films Thornton 83 377 1981 10.1016/0040-6090(81)90644-1

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Advan. Phys. Abeles 24 407 1975 10.1080/00018737500101431

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H.G. Craighead, private communication, Bell Laboratories, Holmdel, NJ (December 1982).
A. Yu, private communication, Lawrence Berkeley, Laboratory, Berkeley CA, (August 1983).
Schwarzkopf 283 1953 Refractory Materials
Thin Solid Films Randich 83 393 1981 10.1016/0040-6090(81)90646-5

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A. Igatiev, private communication, University of Houston, Houston, TX (January 1982).
Thin Solid Films Thornton 96 175 1982 10.1016/0040-6090(82)90618-6

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Thin Solid Films Thornton 72 101 1980 10.1016/0040-6090(80)90563-5

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