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NTIS 바로가기Materials letters, v.1 no.1, 1982년, pp.29 - 32
Levin, R.M. , Evans-Lutterodt, K.
The dependence of the step coverage of chemically vapor deposited undoped SiO2 glass films on the deposition pressure is reported. It has been found that the step coverage is significantly improved when the deposition pressure is increased by reducing the pumping speed. Increasing the pressure by th...
Santoro 59 1403 1971
Kern 214 1973 11th Ann. Proc. Reliab. Phys.
RCA Rev. Kern 34 655 1973
J. Electrochem. Soc. Armstrong 121 307 1974 10.1149/1.2401803
J. Vacuum Sci. Technol. Kern 14 1082 1977 10.1116/1.569340
Sugawara 407 1975 5th International Conference on Chemical Vapor Deposition
R.M. Levin and A.C. Adams, J. Electrochem. Soc., to be published.
J. Electrochem. Soc. Adams 126 1042 1979 10.1149/1.2129171
J. Electrochem. Soc. Pliskin 111 872 1964 10.1149/1.2426271
J. Electrochem. Soc. Pliskin 112 1013 1965 10.1149/1.2423333
Thin Solid Films Blech 6 113 1970 10.1016/0040-6090(70)90068-4
J. Vacuum Sci. Technol. Vossen 11 60 1974 10.1116/1.1318662
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