최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기대한금속 . 재료학회지 = Korean journal of metals and materials, v.46 no.1 = no.414, 2008년, pp.39 - 43
정승진 (고려대학교 신소재공학부) , 이성배 (고려대학교 신소재공학부) , 한승희 (한국과학기술연구원 기능금속재료센터) , 임상호 (고려대학교 신소재공학부)
PSII (Plasma Source Ion Implantation) using high density pulsed ICP source was employed to implant oxygen ions in Si wafer. The PSII technique can achieve a nominal oxygen dose of 3 ×
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.