[논문]Modeling of three-dimensional photoresist profiles exposed by localized fields of high-transmission nano-apertures

Lee, Eungman; Hahn, Jae Won

doi:10.1088/0957-4484/19/27/275303

[해외논문] Modeling of three-dimensional photoresist profiles exposed by localized fields of high-transmission nano-apertures

Nanotechnology, v.19 no.27, 2008년, pp.275303 -

Lee, Eungman , Hahn, Jae Won

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Using a simple theoretical model, we calculate three-dimensional profiles of photoresist exposed by arbitrarily shaped localized fields of high-transmission metal nano-apertures. We apply the finite difference time domain (FDTD) method to obtain the localized field distributions, which are generated by excitation of localized surface plasmon polaritons underneath a C-shaped or a bow-tie-shaped aperture. Incorporating the results of FDTD simulations with the theoretical model, we visualize three-dimensional exposure profiles of the photoresist as a function of the exposure dose and the gap distance between the aperture and the photoresist. It is found that the three-dimensional exposure profiles provide useful information for choosing process parameters for nanopatterning by plasmonic lithography using the aperture.

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동의어: Packet Collision Rate

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용어 설명: PCR은 세균 특이성이 있는 primer를 이용하여 적은 수의 세균이 있을지라도 쉽게 검출할 수 있는 유용한 방법이며, 이를 이용하여 구강 내 치면세균막이나 타액에서 직접 세균을 검출할 수 있게 되었다[8].

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