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NTIS 바로가기Microelectronic engineering, v.86 no.4/6, 2009년, pp.642 - 645
Hwang, S.Y. (Department of Materials Science and Engineering, Korea University, Anam-dong 5Ka-1, Sungbuk-Ku, Seoul 136-701, Republic of Korea) , Hong, S.H. , Jung, H.Y. , Lee, H.
Recently, nano imprint lithography has been developed for mass production of nano-scale patterns on large-scale substrates. To achieve high throughput and cost reduction, roll-to-roll imprint lithography has been introduced. The roll-to-roll imprint is the suitable process for large area patterning,...
Nanotechnology Ahn 16 1874 2005 10.1088/0957-4484/16/9/076
Appl. Phys. Lett. Chen 90 063111 2007 10.1063/1.2472532
Jpn. J. Appl. Phys. Hiroshima 46 6391 2007 10.1143/JJAP.46.6391
J. Vac. Sci. Technol. B Ahn 25 2388 2007 10.1116/1.2798747
Adv. Mater. Ahn 20 2044 2008 10.1002/adma.200702650
Jpn. J. Appl. Phys. Ahn 46 5478 2007 10.1143/JJAP.46.5478
Jpn. J. Appl. Phys. Makela 47 5142 2008 10.1143/JJAP.47.5142
Appl. Phys. Lett. Ahn 89 213101 2006 10.1063/1.2392960
Langmuir Jung 21 6127 2005 10.1021/la050021c
Microelectron. Eng. Lee 77 168 2005 10.1016/j.mee.2004.10.004
Appl. Phys. Lett. Han 91 123118 2007 10.1063/1.2789735
Jpn. J. Appl. Phys. Hong 47 3699 2008 10.1143/JJAP.47.3699
Nano Lett. Ge 5 179 2005 10.1021/nl048618k
Electron. Mater. Lett. Hwang 4 141 2008
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