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NTIS 바로가기Physics of plasmas, v.19 no.3, 2012년, pp.033514 -
Lee, Hyo-Chang (Department of Electrical Engineering, Hanyang University, 17 Haengdang-dong, Seongdong-gu, Seoul 133-791, South Korea) , Chung, Chin-Wook (Department of Electrical Engineering, Hanyang University, 17 Haengdang-dong, Seongdong-gu, Seoul 133-791, South Korea)
Spatial profiles of the plasma potential and electron energy distribution function (EEDF) were measured in inductively coupled plasma (ICP) under weakly collisional and electron nonlocal kinetic regimes. The measured EEDF at the discharge center was a bi-Maxwellain distribution with low (T1) and hig...
Phys. Rev. 34 876 1929 10.1103/PhysRev.34.876
The Characteristics of Electrical Discharges in Magnetic Fields Guthrie 1949
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Principle of Plasma Discharges and Materials Processing 2nd ed. 2004
Lecture Notes on Principles of Plasma Processing 2003
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Appl. Phys. Lett. 63 3137 1993 10.1063/1.110227
J. Phys. D: Appl. Phys. 44 233001 2011 10.1088/0022-3727/44/23/233001
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Appl. Phys. Lett. 96 071501 2010 10.1063/1.3293295
Teplofizika Vysokikh Temp. 12 29 1974
High Temp. 12 26 1974
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