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NTIS 바로가기한국기계가공학회지 = Journal of the Korean Society of Manufacturing Process Engineers, v.11 no.1, 2012년, pp.7 - 12
정해도 , 이창석 , 김지윤
Chemical mechanical polishing(CMP) technology is faced with the challenge of processing new electronic materials. This paper focuses on the balance between chemical and mechanical reactions in the CMP process that is required to cope with a variety of electronic materials. The material properties ...
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