$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

[해외논문] The effects of buffer layers on the performance and stability of flexible InGaZnO thin film transistors on polyimide substrates

Applied physics letters, v.104 no.6, 2014년, pp.063508 -   

Ok, Kyung-Chul (Division of Materials Science and Engineering, Hanyang University 1 , 222, Wangsimni-ro, Seongdong-gu, Seoul 133-791, South Korea) ,  Ko Park, Sang-Hee (Department of Materials Science and Engineering, Korea Advanced Institute of Science and Technology 2 , 291 Daehak-ro, Yuseong-gu, Daejeon 305-701, South Korea) ,  Hwang, Chi-Sun (Transparent Electronics Team, ETRI 3 , Daejeon 305-350, South Korea) ,  Kim, H. (Department of Materials Science and Engineering, Korea Advanced Institute of Science and Technology 2 , 291 Daehak-ro, Yuseong-gu, Daejeon 305-701, South Korea) ,  Soo Shin, Hyun (LG Display R&D Center, LG Display Co., Ltd. 4 , Paju 413-811, South Korea) ,  Bae, Jonguk (LG Display R&D Center, LG Display Co., Ltd. 4 , Paju 413-811, South Korea) ,  Park, Jin-Seong (Division of Materials Science and Engineering, Hanyang University 1 , 222, Wangsimni-ro, Seongdong-gu, Seoul 133-791, South Korea)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

We demonstrated the fabrication of flexible amorphous indium gallium zinc oxide thin-film transistors (TFTs) on high-temperature polyimide (PI) substrates, which were debonded from the carrier glass after TFT fabrication. The application of appropriate buffer layers on the PI substrates affected the...

참고문헌 (24)

  1. Proc. IEEE 93 1391 2005 10.1109/JPROC.2005.851509 

  2. Appl. Phys. Lett. 88 083502 2006 10.1063/1.2178213 

  3. IEEE Electron Device Lett. 18 609 1997 10.1109/55.644086 

  4. IEEE Electron Device Lett. 28 389 2007 10.1109/LED.2007.895449 

  5. Appl. Phys. Lett. 95 013503 2009 10.1063/1.3159832 

  6. Nature (London) 432 488 2004 10.1038/nature03090 

  7. IEEE Trans. Electron Devices 59 1956 2012 10.1109/TED.2012.2193585 

  8. Appl. Phys. Lett. 93 252103 2008 10.1063/1.3054167 

  9. Appl. Phys. Lett. 93 082102 2008 10.1063/1.2975959 

  10. Appl. Phys. Lett. 95 123502 2009 10.1063/1.3232179 

  11. IEEE Electron Device Lett. 34 1394 2013 10.1109/LED.2013.2280024 

  12. IEEE Electron Device Lett. 31 740 2010 10.1109/LED.2010.2048993 

  13. Polym. Degrad. Stab. 74 133 2001 10.1016/S0141-3910(01)00113-6 

  14. Polym. Degrad. Stab. 77 477 2002 10.1016/S0141-3910(02)00105-2 

  15. IEEE Trans. Electron Devices 56 1177 2009 10.1109/TED.2009.2019157 

  16. J. Electrochem. Soc. 157 H983 2010 10.1149/1.3483787 

  17. Physics of Semiconductor Devices 2007 

  18. Appl. Phys. Lett. 96 262109 2010 10.1063/1.3435482 

  19. Appl. Phys. Lett. 94 222112 2009 10.1063/1.3151865 

  20. J. Electrochem. Soc. 158 H115 2011 10.1149/1.3519987 

  21. Electrochem. Solid-State Lett. 13 H376 2010 10.1149/1.3481710 

  22. Electrochem. Solid-State Lett. 15 H133 2012 10.1149/2.005205esl 

  23. J. Phys. D: Appl. Phys. 45 415307 2012 10.1088/0022-3727/45/41/415307 

  24. Thin Solid Films 520 1679 2012 10.1016/j.tsf.2011.07.018 

LOADING...

활용도 분석정보

상세보기
다운로드
내보내기

활용도 Top5 논문

해당 논문의 주제분야에서 활용도가 높은 상위 5개 콘텐츠를 보여줍니다.
더보기 버튼을 클릭하시면 더 많은 관련자료를 살펴볼 수 있습니다.

관련 콘텐츠

이 논문과 함께 이용한 콘텐츠

유발과제정보 저작권 관리 안내
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로