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[해외논문] Microwave and power characteristics of AlGaN/GaN/Si high-electron mobility transistors with HfO2 and TiO2 passivation

Semiconductor science and technology, v.30 no.1, 2015년, pp.015016 -   

Lin, Yu-Shyan ,  Lin, Shin-Fu ,  Hsu, Wei-Chou

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

This work presents AlGaN/GaN high-electron mobility transistors (HEMTs) that are grown on silicon. Various passivation layers are deposited on AlGaN/GaN HEMTs. AlGaN/GaN HEMTs were fabricated with TiO2 dielectrics, and their performance was compared with that of unpassivated and that of HfO2-passiva...

참고문헌 (24)

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