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[해외논문] Microwave and power characteristics of AlGaN/GaN/Si high-electron mobility transistors with HfO2 and TiO2 passivation

Semiconductor science and technology, v.30 no.1, 2015년, pp.015016 -   

Lin, Yu-Shyan ,  Lin, Shin-Fu ,  Hsu, Wei-Chou

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

This work presents AlGaN/GaN high-electron mobility transistors (HEMTs) that are grown on silicon. Various passivation layers are deposited on AlGaN/GaN HEMTs. AlGaN/GaN HEMTs were fabricated with TiO2 dielectrics, and their performance was compared with that of unpassivated and that of HfO2-passiva...

참고문헌 (24)

  1. [1] Wang T B, Hsu W C, Su J L, Hsu R T, Wu Y H, Lin Y S and Su K H 2007 J. Electrochem. Soc. 154 H131 10.1149/1.2409478 Wang T B, Hsu W C, Su J L, Hsu R T, Wu Y H, Lin Y S and Su K H J. Electrochem. Soc. 0013-4651 154 2007 H131 

  2. [2] Green B, Chu K, Chumbes E, Smart J, Shealy J and Eastman L 2000 IEEE Electron Device Lett. 21 268 10.1109/55.843146 Green B, Chu K, Chumbes E, Smart J, Shealy J and Eastman L IEEE Electron Device Lett. 0741-3106 21 2000 268 

  3. [3] Vetury R, Zhang R, Keller N Q and Mishra U K 2001 IEEE Trans. Electron Devices 48 560 10.1109/16.906451 Vetury R, Zhang R, Keller N Q and Mishra U K IEEE Trans. Electron Devices 0018-9383 48 2001 560 

  4. [4] Luo B et al 2002 Appl. Phys. Lett. 80 1661 10.1063/1.1455692 Luo B et al Appl. Phys. Lett. 80 2002 1661 

  5. [5] Mittereder J A, Binari S C, Klein P B, Roussos J A, Katzer D S, Storm D F, Koleske D D, Wickenden A E and Henry R L 2003 Appl. Phys. Lett. 83 1650 10.1063/1.1604472 Mittereder J A, Binari S C, Klein P B, Roussos J A, Katzer D S, Storm D F, Koleske D D, Wickenden A E and Henry R L Appl. Phys. Lett. 83 2003 1650 

  6. [6] Bernat J, Javorka P, Fox A, Marso M, Luth H and Kordos P 2003 Solid-State Electron. 47 2097 10.1016/S0038-1101(03)00238-7 Bernat J, Javorka P, Fox A, Marso M, Luth H and Kordos P Solid-State Electron. 0038-1101 47 2003 2097 

  7. [7] Onojima N, Higashiwaki M, Suda J, Kimoto T, Mimura T and Matsui T 2007 J. Appl. Phys. 101 043703 10.1063/1.2472255 Onojima N, Higashiwaki M, Suda J, Kimoto T, Mimura T and Matsui T J. Appl. Phys. 101 043703 2007 

  8. [8] Jeon C M and Lee J L 2005 Appl. Phys. Lett. 86 172101 10.1063/1.1906328 Jeon C M and Lee J L Appl. Phys. Lett. 86 172101 2005 

  9. [9] Liu C, Chor E F and Tan L S 2007 Semicond. Sci. Technol. 22 522 10.1088/0268-1242/22/5/011 Liu C, Chor E F and Tan L S Semicond. Sci. Technol. 0268-1242 22 5 011 2007 522 

  10. [10] Miyazaki E, Goda Y, Kishimoto S and Mizutani T 2011 Solid-State Electron. 62 152 10.1016/j.sse.2011.04.017 Miyazaki E, Goda Y, Kishimoto S and Mizutani T Solid-State Electron. 0038-1101 62 2011 152 

  11. [11] Yagi S, Shimizu M, Inada M, Yamamoto Y, Piao G, Okumura H, Yano Y, Akutsu N and Ohashi H 2006 Solid-State Electron. 50 1057 10.1016/j.sse.2006.04.041 Yagi S, Shimizu M, Inada M, Yamamoto Y, Piao G, Okumura H, Yano Y, Akutsu N and Ohashi H Solid-State Electron. 0038-1101 50 2006 1057 

  12. [12] Hansen P J, Vaithyanathan V, Wu Y, Mates T, Heikman S, Mishra U K, York R A, Schlom D G and Speck J S 2005 J. Vac. Sci. Technol. B 23 499 10.1116/1.1868672 Hansen P J, Vaithyanathan V, Wu Y, Mates T, Heikman S, Mishra U K, York R A, Schlom D G and Speck J S J. Vac. Sci. Technol. 0734-211X 23 B 2005 499 

  13. [13] Pei Y, Rajan S, Higashiwaki M, Chen Z, DenBaars S P and Mishra U K 2009 IEEE Electon. Dev. Lett. 30 313 10.1109/LED.2009.2012444 Pei Y, Rajan S, Higashiwaki M, Chen Z, DenBaars S P and Mishra U K IEEE Electon. Dev. Lett. 30 2009 313 

  14. [14] Guerra D, Saraniti M, Ferry D K, Goodnick S M and Marino F A 2011 IEEE Trans. Electron Devices 58 3876 10.1109/TED.2011.2164407 Guerra D, Saraniti M, Ferry D K, Goodnick S M and Marino F A IEEE Trans. Electron Devices 0018-9383 58 2011 3876 

  15. [15] Lin Y S, Jou Y J and Huang P C 2009 Appl. Phys. Lett. 94 063506 10.1063/1.3075842 Lin Y S, Jou Y J and Huang P C Appl. Phys. Lett. 94 063506 2009 

  16. [16] Lin Y S, Liang S K and Lin Y S 2009 J. Electrochem. Soc. 156 H401 10.1149/1.3098977 Lin Y S, Liang S K and Lin Y S J. Electrochem. Soc. 0013-4651 156 2009 H401 

  17. [17] Lin Y S, Lin Y T and Huang Y W 2011 Thin Solid Films 519 3388 10.1016/j.tsf.2010.12.238 Lin Y S, Lin Y T and Huang Y W Thin Solid Films 0040-6090 519 2011 3388 

  18. [18] Gillespie J K et al 2002 IEEE Elec. Dev. Lett. 23 505 10.1109/LED.2002.802592 Gillespie J K et al IEEE Elec. Dev. Lett. 0741-3106 23 2002 505 

  19. [19] Kim H, Thompson R M, Tilak V, Prunty T R, Shealy J R and Eastman L F 2003 IEEE Elec. Dev. Lett. 24 421 10.1109/LED.2003.813375 Kim H, Thompson R M, Tilak V, Prunty T R, Shealy J R and Eastman L F IEEE Elec. Dev. Lett. 0741-3106 24 2003 421 

  20. [20] Liu H Y, Chou B Y, Hsu W C, Lee C S and Ho C S 2011 IEEE Trans. Electron Devices 58 4430 10.1109/ted.2011.2167512 Liu H Y, Chou B Y, Hsu W C, Lee C S and Ho C S IEEE Trans. Electron Devices 0018-9383 58 4430 2011 

  21. [21] Li G H, Yang L, Jin Y X and Zhang L D 2000 Thin Solid Films 368 163 10.1016/S0040-6090(00)00725-2 Li G H, Yang L, Jin Y X and Zhang L D Thin Solid Films 0040-6090 368 2000 163 

  22. [22] Bennett N S, Cherkaoui K, Wong C S, O’Connor É, Monaghan S, Hurley P, Chauhan L and McNally P J 2014 Thin Solid Films 569 104 10.1016/j.tsf.2014.08.025 Bennett N S, Cherkaoui K, Wong C S, O’Connor É, Monaghan S, Hurley P, Chauhan L and McNally P J Thin Solid Films 0040-6090 569 2014 104 

  23. [23] Ibbetson J P, Fini P T, Ness K D, DenBaars S P, Speck J S and Mishra U K 2000 Appl. Phys. Lett. 77 250 10.1063/1.126940 Ibbetson J P, Fini P T, Ness K D, DenBaars S P, Speck J S and Mishra U K Appl. Phys. Lett. 77 2000 250 

  24. [24] Wilk G D, Wallace R M and Anthony J M 2001 J. Appl. Phys. 89 5243 10.1063/1.1361065 Wilk G D, Wallace R M and Anthony J M J. Appl. Phys. 89 2001 5243 

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