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A tunable sub-100 nm silicon nanopore array with an AAO membrane mask: reducing unwanted surface etching by introducing a PMMA interlayer
Nanoscale, v.7 no.32, 2015년, pp.13489 - 13494
Lim, Namsoo , Pak, Yusin , Kim, Jin Tae , Hwang, Youngkyu , Lee, Ryeri , Kumaresan, Yogeenth , Myoung, NoSoung , Ko, Heung Cho , Jung, Gun Young
초록이 없습니다.
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원문 URL 링크
- DOI : 10.1039/C5NR02786A
- Royal Society of Chemistry : 저널
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- [본원] 대전광역시 유성구 대학로 245 한국과학기술정보연구원
- [분원] 서울시 동대문구 회기로 66 한국과학기술정보연구원
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