[논문]Micro‐Optics for Photolithography : Key enabling technology for wafer‐based manufacturing technology

Voelkel, Reinhard

doi:10.1002/opph.201500030

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[해외논문] Micro‐Optics for Photolithography : Key enabling technology for wafer‐based manufacturing technology

Optik & photonik, v.10 no.4, 2015년, pp.30 - 33

Voelkel, Reinhard

Abstract ▼ AI-Helper

AbstractPhotolithography is the engine that empowered semiconductor industry to reduce the minimum feature size of the components of a microchip from some 50 microns in the 1960s to below 14 nanometers today. Diffractive and refractive micro‐optical components play a decisive role in modern photolithography systems, e. g. for laser line width narrowing, laser beam shaping (customized illumination), as phase‐shift masks (PSM), for optical proximity correction (OPC), and for diffraction‐based overlay (DBO). Wafer‐based manufacturing of high‐quality micro‐optics and their importance for photolithography will be explained.

참고문헌 (7)

J. A. Hoerni: Method of Manufacturing Semiconductor Devices US Patent #3 025 589 (1959) .
Brown, B. R., Lohmann, A. W.. Complex Spatial Filtering with Binary Masks. Applied optics, vol.5, no.6, 967-.

상세보기
US Patent 4155627 M. T. Gale H. W. Lehmann R. W. Widmer filed December 21 1977 .
US Patent 4689291 Z. D. Popovic R. A. Sprague G. A. Neville Connell (1985) .
Adv. Opt. Technol. Voelkel R. 135 1 2012 10.1515/aot-2012-0013 Wafer‐scale micro‐optics fabrication

상세보기
R. Voelkel et al.: European Patent Application EP 2253997 (2009) A2 .
Optica Applicata Schwider J. 83 1976 Testing of Aspherics by Means of Rotational‐Symmetric Synthetic Hologramss

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