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NTIS 바로가기Journal of applied physics, v.50 no.8, 1979년, pp.5530 - 5532
Shimada, T. (Central Research Laboratory, Hitachi Ltd., Kokubunji, Tokyo 185, Japan) , Katayama, Y. (Central Research Laboratory, Hitachi Ltd., Kokubunji, Tokyo 185, Japan) , Komatsubara, K. F. (Central Research Laboratory, Hitachi Ltd., Kokubunji, Tokyo 185, Japan)
Amorphous SixC1−x : H alloys are prepared by simultaneous rf reactive sputtering of silicon and graphite in a H2-Ar gas mixture. Silicon, carbon, and hydrogen contents are measured for the entire range of x by electron spectroscopy for chemical analysis (ESCA), Rutherford-backscattering metho...
Solid State Commun. 17 1193 1975 10.1016/0038-1098(75)90284-7
Philos. Mag. 33 935 1976 10.1080/14786437608221926
Solid State Commun. 24 867 1977 10.1016/0038-1098(77)91232-7
Philos. Mag. 35 1 1977 10.1080/14786437708235967
J. Vac. Sci. Technol. 13 1010 1976
Appl. Phys. Lett. 32 567 1978 10.1063/1.90132
Appl. Phys. Lett. 30 561 1977 10.1063/1.89260
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