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[해외논문] Capacitance-Voltage Characteristics of Metallic Gate/Oxide/a-Si:H Mos Structures

Materials Research Society symposia proceedings, v.70, 1986년, pp.167 -   

Schropp, Ruud E. I. ,  Snijder, Jan ,  Verwey, Jan F.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

ABSTRACTThe density of states (DOS) has for the first time been calculated throughout the entire bandgap region of undoped amorphous silicon from quasi-static capacitance-voltage (QSCV) measurements using MOS structures. The QSCV DOS is compared with the DOS obtained by the field-effect method. It i...

참고문헌 (16)

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