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NTIS 바로가기대한전기학회 1999년도 하계학술대회 논문집 D, 1999 July 19, 1999년, pp.1888 - 1890
김상용 (중앙대학교 전기공학과) , 서용진 (대불대학교 전기전자공학부) , 김태형 (여주대학 전기과) , 이우선 (조선대학교 전기공학과) , 정헌상 (조선대학교 전기공학과) , 김창일 (중앙대학교 전기공학과) , 장의구 (중앙대학교 전기공학과)
In this work, we have systematically studied the effects of filtration and the defect trend as a function of polished wafer count using various filters in Inter-Metal Dielectric(IMD) CMP. The filter Installation in CMP polisher makes defect reduced after IMD CMP. As a result of formation micro-scrat...
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