최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기대한전기학회 1999년도 하계학술대회 논문집 D, 1999 July 19, 1999년, pp.1919 - 1921
김민석 (명지대학교 전기공학과) , 권정열 (명지대학교 전기공학과) , 김지균 (명지대학교 전기공학과) , 이헌용 (명지대학교 전기공학과) , 이환철 (대진대학교 재료공학과)
AlN thin films were fabricated by sputter for the application of MIS device with Al/AlN/Si structure. We controled that sub-temperature room-temperature. Sputtering pressure 5 mTorr, flow ratio Ar:
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.