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NTIS 바로가기대한전기학회 1987년도 전기.전자공학 학술대회 논문집(I), 1987 July 03, 1987년, pp.561 - 564
김의송 (삼성반도체통신(주)) , 이철진 (삼성반도체통신(주)) , 류지효 (삼성반도체통신(주)) , 송성해 (삼성반도체통신(주))
The deposition and reflow properties or BPSG film deposited by APCVD was characterized by variation of each process parameter. As deposition temperature is increased higher, deposition rate is decreased. Maximum deposition rate of BPSG film is obtained in higher 02/Hyride ratio than CVD Oxide or PSG...
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