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APCVD에 의란 BPSG 막질특성에 관란 연구
A Study on Characteristics of Borophosphosilicate Gloss deposited by At.ospheri, Pressure Chemical Vapor Deposition 원문보기

대한전기학회 1987년도 전기.전자공학 학술대회 논문집(I), 1987 July 03, 1987년, pp.561 - 564  

김의송 (삼성반도체통신(주)) ,  이철진 (삼성반도체통신(주)) ,  류지효 (삼성반도체통신(주)) ,  송성해 (삼성반도체통신(주))

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

The deposition and reflow properties or BPSG film deposited by APCVD was characterized by variation of each process parameter. As deposition temperature is increased higher, deposition rate is decreased. Maximum deposition rate of BPSG film is obtained in higher 02/Hyride ratio than CVD Oxide or PSG...

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