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NTIS 바로가기대한전자공학회 2003년도 하계종합학술대회 논문집 II, 2003 July 01, 2003년, pp.1065 - 1068
맹성렬 (한국전자통신연구원 응용소자연구부) , 조원주 (한국전자통신연구원 응용소자연구부) , 오지훈 (한국전자통신연구원 응용소자연구부) , 임기주 (광주 과학기술윈 신소재공학과) , 장문규 (한국전자통신연구원 응용소자연구부) , 박재근 (한양대학교 나노 SOI 공정연구실) , 심태헌 (한양대학교 나노 SOI 공정연구실) , 박경완 (서울 시립대학교 나노과학과) , 이성재 (한국전자통신연구원 응용소자연구부)
For the first time, high quality ultra-thin strained Si/SiGe on Insulator (SGOI) substrate with total SGOI thickness(
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