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난수발생기를 이용한 뉴런경사 제어와 플라즈마 식각공정 데이터 모델링에의 응용
Neuron gradient control by random generator and application to modeling a plasma etch process data 원문보기

대한전기학회 2003년도 하계학술대회 논문집 D, 2003 July 21, 2003년, pp.2582 - 2584  

김성모 (세종대학교 전자공학과) ,  김병환 (세종대학교 전자공학과)

초록
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역전파 신경망 (BPNN)은 반도체 공정 모델링에 효과적으로 응용되고 있다. 뉴런활성화 함수는 동일한 값을 가지며, 이로 인해 예측정확도를 증진하는 데에는 한계가 있었다. 본 연구에서는 난수발생기(Random generator-RG)를 이용하여 뉴런 경사들이 다중값을 가지도록 최적화하였다. 본 기법은 은닉충의 뉴런수의 함수로 고찰하였으며, 종래의 고정된 경사를 갖는 모델과 그 성능을 비교 평가하였다. 평가에 이용된 데이터는 플라즈마 식각 공정데이터이며, 모델에 이용된 응답은 식각률과 프로파일 각이다. 비교결과 종래의 모델에 비해 예측정확도가, 식각률의 경우 19%-43%, 프로파일의 경우 10%-56% 정도 향상하였으며, 이는 제안된 기법이 모델개발에 매우 효과적으로 적용될 수 있음을 보여준다.

AI 본문요약
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문제 정의

  • 한편, 최적화된 경사는 모든 뉴런에 대해서 동일한 값을 가지고 있어, 예측정확도를 더 중진하는데에는 한계가 있었다. 경사값을 다중값울 갖게 할 경우, 예측정확도의 중진을 기대할 수 있으며, 이를 본 연구에서 고찰하고자 한다
  • 각 모델에 대해서 초기웨이트의 값은 동일하게 설정하였다. 본 기법은 종래의 모델기법 과 비교하여, 그 우수성을 확인한다.
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