[논문]<tex> $ZrO_2$</tex>와 Si의 계면층 조작에 따른 게이트용 캐퍼시터 특성 연구

공성호; 전창배; 김지영

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[국내논문] $ZrO_2$와 Si의 계면층 조작에 따른 게이트용 캐퍼시터 특성 연구
Effects of interfacial layers between $ZrO_2$ and Si on capacitor characteristics for alternative gate dielectric application 원문보기

한국재료학회 2002년도 춘계 학술발표강연 및 논문개요집, 2002 May 01, 2002년, pp.128 - 128

공성호 (국민대학교) , 전창배 (국민대학교) , 김지영 (국민대학교)

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