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NTIS 바로가기한국전기전자재료학회 2003년도 하계학술대회 논문집 Vol.4 No.1, 2003 July 10, 2003년, pp.63 - 66
홍능표 (광운대학교 전기공학과) , 최두진 (페어차일드 코리아 반도체(주)) , 고길영 (광운대학교 전기공학과) , 이태선 (광운대학교 전기공학과) , 최병하 (페어차일드 코리아 반도체(주)) , 홍진웅 (광운대학교 전기공학과)
In this paper, the electrical characteristics of single oxide layer due to high temperature diffusion process, wafer resistivity and thickness of poly backseat was researched. The oxide quality was examined through capacitance-voltage characteristics, and besides, it will be describe the capacitance...
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