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문제 정의
- 그러나 이와 같은 장점에도 불구하고 오염물이 부품 표면에서 탈착되는 최적 공정 조건 규명에 대한 연구가 필요하며 타 기술에 대한 경제성의 이점을 확보하기 위해서는 보다 세정 효율을 높일수 있어야 한다. 따라서 본 연구에서는 이와 같은 자외선광의 반도체 부품 세정 가능성을 타진하기 위해 반도체 공정 부품 장비로 사용되는 suscepter(Quartz 재질)의 표면에 필름 형태로 오염되어 있는 알루미늄 및 알루미나를 세정하기 위해 그림1과 같은 실험 장치를 구성하여, 레이저의 파장 및 에너지 밀도, 펄스 레이저의 반복률, 조사 펄스 수에 대한 세정 효율 특성을 연구하였다. 세정 광원으로는 KrF(248nm) 엑시머 레이저를 사용하였으며, 레이저에서 나온 빔은 공간필터(spatial filter)를 거친 후 초점거리 20cm 실린더형 렌즈를 통과하여 거울에 반사된 후 세정 시료의 표면에 조사된다.
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