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광굴절 고분자에서 회절격자의 phase shift 측정
Measurement of phase shift of the grating in photorefractive polymer 원문보기

한국광학회 2003년도 제14회 정기총회 및 03년 동계학술발표회, 2003 Feb. 01, 2003년, pp.244 - 245  

이현기 (한양대학교 물리학과) ,  황의중 (한양대학교 물리학) ,  여세연 (한양대학교 물리학) ,  김정성 (한양대학교 물리학) ,  오차환 (한양대학교 물리학) ,  송석호 (한양대학교 물리학) ,  김필수 (한양대학교 물리학) ,  최동훈 (경희대학교 환경·응용화학부)

초록
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광굴절 유기 고분자 재료는 1991년 IBM연구소에서 광굴절 효과를 나타내는 고분자 기억소자로의 기능성을 타진한 후에 광굴절 무기 결정에 비해 높은 회절효율의 가능성, 도핑의 용이성, 저렴한 생산비용, 다양한 응용성 등으로 많은 연구가 이루어지고 있다. 본 실험에서는 광전도 고분자(Charge transporting molecule)인 SGC와 비선형 광학색소(NLO)인 SGM, Tg를 낮추기위한 가소제인 PEG, 전하 발생체(Photocharge generator, Sensitiser)로 이루어진 (SGC:SGM:PEG:TNF=30:60:9:1) 광굴절 고분자 복합재료의 특성을 분석하였다. (중략)

AI 본문요약
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제안 방법

  • 이러한 방법으로 광 세기 분포와 형성 된 굴절율 격자간의 phase 차이를 측정할 수 있다. 본 실험에서는 한쪽 mirror를 modulation하는 방법 2로 인가되는 외부 전장에따른 phase shift와 gain coefficient를 측정하였다.
  • 5 mW/cm2 로 약화시켜 사용하였다. 시료의 앞면과 뒷면에 접착된 ITO 전극에 의해 시료에 전장을 인가하였고, 인가 전장을 조절하면서 회 절효율을 측정하였다. 시간에 따라 회절효율이 증가하다가 약 5분 후 포화되었으며, 인가 전장이 증가함에 따라 포화된 회절효율도 증가하였다.

대상 데이터

  • 와 같이 장치하였다. 광원으로는 632.8nm의 He-Ne laser를 사용하였다. 두 빔사이의 각은 약 26° 이었고(2θ= 26' ), 이때 격자 주기는 1.
  • p data-page="1">제작된 광굴절고분자 재료는 굴절률 n= 1.65, 두께 d=75㎛이었다. 광굴절 고분자를 이용한 회절 효율을 측정하기 위하여 그림 2.
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