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유도 결합 플라즈마 화학 기상 증착법에 의해 제조된 carbon nitride 박막의 기판 r.f. bias 효과에 대한 연구 원문보기

한국표면공학회 2003년도 추계학술발표회초록집, 2003 Oct. 01, 2003년, pp.53 - 53  

이희용 (서울대학교 공과대학 재료공학부) ,  이동각 (서울대학교 공과대학 재료공학부) ,  김진남 (서울대학교 공과대학 재료공학부) ,  이정중 (서울대학교 공과대학 재료공학부) ,  강대환 (서울대학교 공과대학 신소재 공동 연구소) ,  주정훈 (군산대학교 공과대학 재료ㆍ화학공학부)

초록
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유도 결합 플라즈마는 비교적 간단한 방법으로 1$\times$$10^{10}$㎤ 이상의 높은 플라즈마 밀도, 저용량 결합(low capacitive coupling), 대면적 균일성을 제공하기 때문에 플라즈마 공정의 관점에서 매우 효율적이다. 따라서 유도 결합 플라즈마의 이러한 장점들은 화학적 기상 증착법으로 적용하였을 때 코팅의 특성을 향상시키는데 매우 유리할 것으로 생각된다. 특히, 좋은 특성을 가진 carbon nitride 박막을 제조하기 위해서 높은 밀도를 이용한 반응 기체의 분해와 상온에서의 증착이 필수적인데, 유도 결합 플라즈마 공정은 이런 점에서 매우 효과적이다.

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