최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기한국반도체및디스플레이장비학회 2002년도 추계학술대회 발표 논문집, 2002 Nov. 01, 2002년, pp.14 - 19
부성은 ((주)컴텍스) , 정우철 ((주)컴텍스) , 배남진 ((주)컴텍스) , 권용범 ((주)컴텍스) , 박세종 (경북대학교) , 이정희 (경북대학교)
In this study, as Cu diffusion barrier, tantalum nitrides were successfully deposited on Si(100) substrate and SiO2 by plasma assisted atomic layer deposition(PAALD) and thermal ALD, using pentakis (ethylmethlyamino) tantalum (PEMAT) and
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.