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문제 정의
- 2(c)는 deflector에 의한 가공시의 contour scanning performance 를 테스트하기 위한 것이다. FIB 시스템을 이용하여 원형 패턴을 만들었을 때 정확한 원이 가공 되는지, 아니면 어떤 방향으로 오차를 발생시키는지 살펴보기 위한 것이다.
- 2(a)는 deflector의 분해능, 정확도 및 정밀도를 측정하기 위한 패턴이다. X축 혹은 Y축 방향에 따라 지정된 거리에 따른 선을 성형하고, 성형된 거리의 측정을 통하여 deflector의 성능을 평가하기 위하여 설계 되었다. 그리고 ig.
- 방향에 따라 deflector가 가지는 거리 조절 능력을 평가하기 위함이다. 각 선간의 거리를 방향별로 측정한 후 발생 오차의 상호 비교를 통하여, deflector가 방향에 따라 제어 능력이 어떻게 변하는지 살펴보기 위한 것이다.그리고 Fig.
- 3(a)는 X & Y stage 시스템의 짧은 거리에 대한 위치정밀도, 정확도 그리고 분해능을 평가하기 위한 패턴이다. 방향에 따라 다양한 거리를 가지도록 선 혹은 점을 가공한 후 각거리의 정밀한 측정을 통하여 X&Y stage 시스템의 위치 정밀도, 정확도 그리고 분해능을 평가하기 위한 것이다. 그러나 AFM 혹은 SEM을 이용하여 정밀하게 측정할 수 있는 거리는 한계가 있기 때문에, 본 연구에서는 stage 테스트에 대하여 long travel test와 short travel test로 구분하였다.
- 본 연구에서는 앞절에서 소개된 평가 항목 및 설계된 나노 패턴을 바탕으로 평가의 적절성을 확인하기 위하여 몇몇 나노 패턴의 가공 및 평가를 수행하였다.
- 일반적으로 FIB 시스템은 5축 혹은 6축 Stage 시스템이 이용된다. 본 연구에서는 우선, XXY 스테이지 시스템에 관한 평가용 패턴을 제시하였다.
- 이에 본 연구에서는 FIB 시스템을 구성하는 각 부품의 개별적인 분리 없이, 시스템의 가공성의 관찰을 통하여 전체 시스템의 성능을 평가하기 위한 방안을 제시하고자 한다. 절삭 가공을 통하여 제작되는 나노 패턴에는 시스템의 특성이 반영된다.
- 이에 본 연구에서는 FIB 시스템을 이용한 가공성을 분석하여 FIB 시스템을 평가하기 위한 방안을 제시하였다. 먼저 FIB 시스템을 평가하기 위한 평가 항목을 분류하였다.
- 절삭 가공을 통하여 제작되는 나노 패턴에는 시스템의 특성이 반영된다. 즉, 설계된 패턴과 제작된 결과의 상호 비교를 통하여 시스템의 특성을 분석 및 평가하고자 한다.
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