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진공증착에 의해 제조된 열전 박막의 제조 특성
Production Characteristics of Thermoelectric Film Produced by Vacuun Evaporation 원문보기

한국전기전자재료학회 2004년도 하계학술대회 논문집 Vol.5 No.2, 2004 July 05, 2004년, pp.865 - 868  

김봉서 (한국전기연구원) ,  정현욱 (한국전기연구원) ,  박수동 (한국전기연구원) ,  이희웅 (한국전기연구원)

초록
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열 진공 증착법(thermal vacuum evaporation)에 의해 p-형 열전박막을 $3{\times}10^{-4}{\sim}3{\times}10^{-6}$ Torr의 범위에서 유리 기판 위에 제조하였다. 제조된 박막전기저항은 고진공일수록 저항이 증가하였으며, $Bi_2Te_3$$Sb_2Te_3$상을 가지고 있었다. 박막의 조성은 기판의 위치에 따라 변화하였고, 원자 번호가 작을수록 위치의 영향이 크고, 반대로 원자번호가 큰 원소는 그 영향이 작았다. 또한 고진공에서 제조된 박막일수록 상대적으로 저진공에 비해 조성의 변화가 적게 나타났다.

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문제 정의

  • 있다. 그러나 본 연구와 같이 다성분계의 피증착물을 진공 증착할 경우에 있어서 야기되는 박막 조성 조절을 위해 기판에 증착되는 박막의 위치와 증착시의 진공도를 변화시키면서 박막의 조성을 분석한 결과를 나타내었다.
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