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[국내논문] 반도체 웨이퍼위의 Aerosol Nanoparticle 증착 장비 개발 원문보기

한국반도체및디스플레이장비학회 2004년도 춘계학술대회 발표 논문집, 2004 May 01, 2004년, pp.207 - 212  

안강호 (한양대학교 기계공학과) ,  안진홍 (한양대학교 대학원) ,  이관수 (한양대학교 기계공학과) ,  임광옥 (한양대학교 기계공학과) ,  강윤호 (삼성전자(주)종합기술원)

초록
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4 ～ 20 nm 범위의 입자들이 갖는 전기적 특성을 이용하기 위하여 이들 입자를 300mm 웨이퍼 위에 균일하게 증착시키는 기술을 개발하고자 하였다. 이를 위하여 나노 임자의 증착 장비 개발에 필요한 증착 장비내 유동장 해석 및 온도 구배장 해석을 수행하였다. 증착 장비 입구의유량이 3 1pm, 4 nm인 경우, 입자의 확산력만을 고려하였을 때, 대부분의 입자들은 웨이퍼 표면이 아닌 벽면으로의 부착이 98% 정도 일어났다. 그러나 입자의 열영동 및 전기영동을 고려한 경우, 100% 웨이퍼 표면에 증착되는 것을 알 수 있었다. 따라서 입자의 확산력 이외의 외력(열영동, 전기영동)을 이용하면 웨이퍼 표면에의 증착 효율을 상승시킬 수 있을 것으로 판단된다.

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