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제안 방법
- 4 점굽힘시험이 끝난 후 시험편의 파면을 FESEM 으로 분석하여 파괴경로를 확인하고, AFM 을통해 측정된 CF4 에칭 후 글래스 웨이퍼의 표면거칠기와의 상관관계를 규명하였다.
- 4 점굽힘실험이 끝난 후 시험편의 파면을 FE-SEM 으로 관찰하였다. 그 결과 CF4 가스로 표면을 에칭하지 않은 시험편, 30, 60, 90초 각각 처리한 시험폄 모두 노치가 있는 글래스 웨이퍼와 UV 경화 폴리머사이에서 파괴가 일어난 것으로 나타났다.
- CF4 가스 플라즈마를 통해 글래스 웨이퍼 기판을 에칭 시킨 후 나노임프린트 리소그래피 기술에 사용되는 UV 경화레진과의 정량적인 계면접착에너지를 평가하였다. 그 결과 글래스 웨이퍼의 표면의 에칭 시간이 길어짐에 따라 표면거칠기가 증가하였고, 계면접착에너지도 증가하는 경향을 나타내었다.
- 4ⅹ10-1 torr 로 유지한 뒤 CF4 가스를 25 sccm 씩 흘려주었다. 글래스 웨이퍼 표면은 각각 30, 60, 90초 동안 플라즈마 에칭을 하였다. 에칭 후 바로 UV 경화 폴리머를 0.
- 글래스 웨이퍼의 표면을 CF4 가스로 30, 60, 90초 동안 에칭하여 표면거칠에 따른 계면접착에너지를 평가하였다. 글래스 에칭 전 표면거칠기(Ra) 는 100 nm 였으나 30, 60, 90초 동안 CF4 가스로 에칭 후 에는 123, 130, 161 nm 로 증가하는 거동을 보였다.
- 가스를 사용하여 30, 60, 90 sec 동안 플라즈마 에칭을 실시하여 UV 경화 폴리머와의 계면접착에너지를 정량적으로 평가 하였다. 또한 글래스 웨이퍼의 표면거칠기와 계면접착에너지 사이의 상관관계를 규명하였다.
- 이에 본 연구에서는 글래스 웨이퍼 표면을 CF4가스를 사용하여 30, 60, 90 sec 동안 플라즈마 에칭을 실시하여 UV 경화 폴리머와의 계면접착에너지를 정량적으로 평가 하였다. 또한 글래스 웨이퍼의 표면거칠기와 계면접착에너지 사이의 상관관계를 규명하였다.
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