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EUV Lithography 개요 및 기술 개발 현황
State-of-the-art Technologies of EUV Lithography 원문보기

대한전기학회 2001년도 추계학술대회 논문집 전기물성,응용부문, 2001 Nov. 03, 2001년, pp.277 - 280  

김용주 (한국전기연구원) ,  박도영 (한국전기연구원) ,  진윤식 (한국전기연구원) ,  강도현 (한국전기연구원) ,  전영환 (한국전기연구원)

초록
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국내 반도체 산업계의 메모리 반도체 생산규모는 세계 최대이지만 반도체 생산 장비는 대부분 수입에 의존하고 있다. 특히 lithography는 반도체 공정의 핵심일 뿐 아니라 반도체 기술 분야에서 국가의 총체적인 기술력을 대표한다. 2001년 7월에 과학 기술부가 나노급 lithography 장비 개발을 21세기 프론티어 사업으로 추진하기 위한 준비 작업에 착수하였다. 본 논문에서는 차세대 lithography로 채택된 EUV (Extreme Ultra Violet) lithography 장비 기술의 개요와 국내외 기술 개발 현황에 대하여 설명한다.

AI 본문요약
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문제 정의

  • 미국, 유럽의 EUVL 기술개발 동향 그리고 이와 관련된 전망에 대하여 분석한다. 또한 국내의 기술 개발 현황도 소개한다.
  • 본 논문에서는 일본. 미국, 유럽의 EUVL 기술개발 동향 그리고 이와 관련된 전망에 대하여 분석한다.

가설 설정

  • Optics 시스템에서 EUV 광의 반사 효율을 높이는 문제도 많은 연구가 필요한 분야이다.〔7〕Environment 사lamber는짧은 EUV 광의 효율적인 투과를 위하여 기존의 optical lithography에서는 채택되지 않았던 진공을 유지하고 있다. 따라서 공기 부상식 stage보다 자기 부상식 stage 가 사용된다.
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