[논문]유도 결합형 <tex> $SF_6$</tex>플라즈마 특성에 관한연구

하장호; 전용우; 송현직; 박원주; 이광식; 이동인

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[국내논문] 유도 결합형 $SF_6$플라즈마 특성에 관한연구
A Study on the Characteristic of the Inductively Coupled $SF_6$ Plasma 원문보기

대한전기학회 1999년도 추계학술대회 논문집 학회본부 C, 1999 Nov. 20, 1999년, pp.1111 - 1113

하장호 (영남대학교) , 전용우 (영남대학교) , 송현직 (영남대학교) , 박원주 (영남대학교) , 이광식 (영남대학교) , 이동인 (영남대학교)

Abstract ▼ AI-Helper

This paper represents the characteristic analysis for the etching in $SF_6$ plasma and the plasma itself, based on the specific knowledges on the discharge mechanism of $SF_6$ plasma which is widely used for the applications of dry etching, using Radio Frequency Inductively Coupled Plasma (RFICP) by measuring electron density, electron temperature then observing their relationship to find the effect of discharge mechanism of $SF_6$ plasma to the etching in contrast to the existing method of finding optimal discharge condition by heuristic.

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