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NTIS 바로가기대한설비공학회 2007년도 동계학술발표대회 논문집, 2007 Nov. 30, 2007년, pp.488 - 492
남승백 ((주)신성이엔지 기술연구소) , 하종필 ((주)신성이엔지) , 김태형 ((주)신성이엔지) , 문인호 ((주)신성이엔지) , 조인수 ((주)신성이엔지)
In this study, experiment was done to verify the relationship between sprayed water's pH and gas removal efficiency of the Air Washer system. The experiment was done with sprayed water's pH in between pH 4.7 to 7.7, and Ion Chromatography analysis was used to identify the system's gas removal effici...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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가스상의 오염원은? | 가스상의 오염원으로는 외기에서 유입되는 것과 클린룸 내부의 오염원이 있다. 외기에 포함된 오염 성분은 대표적으로 NH3, SOX, NOX 등을 들 수 있으며 이에 대한 제거 수단으로서는 공기 중에 물을 분무하여 가스를 제거하는 에어와셔와, 가스성분의 선택적인 흡착을 통해 제거하는 케미컬 필터가 있다. | |
대표적인 외기에 포함된 오염 성분은? | 가스상의 오염원으로는 외기에서 유입되는 것과 클린룸 내부의 오염원이 있다. 외기에 포함된 오염 성분은 대표적으로 NH3, SOX, NOX 등을 들 수 있으며 이에 대한 제거 수단으로서는 공기 중에 물을 분무하여 가스를 제거하는 에어와셔와, 가스성분의 선택적인 흡착을 통해 제거하는 케미컬 필터가 있다. 에어와셔는 초기설치비는 고가인 반면 유지보수가 용이하고 시간에 따른 가스제거 성능의 저하가 없어 최근 반도체용 클린룸의 외조기에 다수 적용되고 있다. | |
반도체용 클린룸에 사용되는 에어와셔의 장단점은? | 외기에 포함된 오염 성분은 대표적으로 NH3, SOX, NOX 등을 들 수 있으며 이에 대한 제거 수단으로서는 공기 중에 물을 분무하여 가스를 제거하는 에어와셔와, 가스성분의 선택적인 흡착을 통해 제거하는 케미컬 필터가 있다. 에어와셔는 초기설치비는 고가인 반면 유지보수가 용이하고 시간에 따른 가스제거 성능의 저하가 없어 최근 반도체용 클린룸의 외조기에 다수 적용되고 있다. |
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