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제안 방법
- 본 연구에서는 다양한 자기장 시뮬레이션을 통해 플라즈마 형성 거동을 예측하고 합성된 CrN 코팅막의 물성을 평가하여 자기장 시뮬레이션 결과와 비교 분석하였다.
- 본 연구에서는 Poisson V6 프로그램을 이용하여 코팅 챔버 내의 영구자석 배열에 따른 자기장 변화를 시뮬레이션하고, 비대칭 마그네트론 스퍼터링 장비를 이용하여 자기장 변화에 따른 방전거동 변화를 관찰하고 CrN 코팅막을 합성하였다. 합성된 CrN 코팅막의 물성을 평가하기 위해 마이크로 비커스 경도기를 이용하여 미세경도를 측정하였으며, 양극분극시험을 통해 코팅막의 내식성을 평가하였다.
- 본 연구에서는 Poisson V6 프로그램을 이용하여 코팅 챔버 내의 영구자석 배열에 따른 자기장 변화를 시뮬레이션하고, 비대칭 마그네트론 스퍼터링 장비를 이용하여 자기장 변화에 따른 방전거동 변화를 관찰하고 CrN 코팅막을 합성하였다. 합성된 CrN 코팅막의 물성을 평가하기 위해 마이크로 비커스 경도기를 이용하여 미세경도를 측정하였으며, 양극분극시험을 통해 코팅막의 내식성을 평가하였다. 주사전자현미경을 통해 합성된 코팅막의 단면조직을 관찰하였으며, XRD 분석을 통해 자기장 변화에 따른 미세조직 형성 거동을 관찰하여 코팅막 물성과 더불어 미세조직 변화에 미치는 자기장의 영향을 해석하였다.
- 합성된 CrN 코팅막의 물성을 평가하기 위해 마이크로 비커스 경도기를 이용하여 미세경도를 측정하였으며, 양극분극시험을 통해 코팅막의 내식성을 평가하였다. 주사전자현미경을 통해 합성된 코팅막의 단면조직을 관찰하였으며, XRD 분석을 통해 자기장 변화에 따른 미세조직 형성 거동을 관찰하여 코팅막 물성과 더불어 미세조직 변화에 미치는 자기장의 영향을 해석하였다.
- Mirror type 및 cross link type으로 영구자석을 배열하고 시뮬레이션을 통해 플라즈마 형성 영역을 예측하였다. Mirror type으로 배열된 자장 구조에서는 챔버 중앙부까지 자기장이 도달하지 않았으며, cross link type의 자석 배열에서는 전체적으로 챔버를 둘러싸고 있는 자기장의 형성을 관찰할 수 있었다.
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