최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기한국전기전자재료학회 2007년도 하계학술대회 논문집 Vol.8, 2007 June 21, 2007년, pp.502 - 502
Kim, Yong-Sik
(Central R&D Institute, Samsung Electro-Mechanics)
,
Seo, Shang-Hoon
(Central R&D Institute, Samsung Electro-Mechanics)
,
Lee, Ro-Woon
(Central R&D Institute, Samsung Electro-Mechanics)
,
Kim, Tae-Hoon
(Central R&D Institute, Samsung Electro-Mechanics)
,
Park, Jae-Chan
(Central R&D Institute, Samsung Electro-Mechanics)
,
Kim, Tae-Gu
(Central R&D Institute, Samsung Electro-Mechanics)
,
Jeong, Kyoung-Jin
(Central R&D Institute, Samsung Electro-Mechanics)
,
Yun, Kwan-Soo
(Central R&D Institute, Samsung Electro-Mechanics)
,
Park, Sung-Jun
(Central R&D Institute, Samsung Electro-Mechanics)
,
Joung, Jae-Woo
(Central R&D Institute, Samsung Electro-Mechanics
Current thin film process using memory device fabrication process use expensive processes such as manufacturing of photo mask, coating of photo resist, exposure, development, and etching. However, direct printing technology has the merits about simple and cost effective processes because inks are di...
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.