[논문]마그네트론 스퍼터링법으로 증착한 VOx 박막의 열처리에 따른 광학적.전기적 특성 변화

공영주; 박용섭; 박재욱; 이성욱; 홍병유

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[국내논문] 마그네트론 스퍼터링법으로 증착한 VOx 박막의 열처리에 따른 광학적.전기적 특성 변화
Effect of thermal annealing on optical and electrical properties of VOx deposited by magnetron sputtering 원문보기

한국전기전자재료학회 2008년도 추계학술대회 논문집 Vol.21, 2008 Nov. 06, 2008년, pp.247 - 247

공영주 (성균관대학교) , 박용섭 (성균관대학교) , 박재욱 (성균관대학교) , 이성욱 (성균관대학교) , 홍병유 (성균관대학교)

Abstract ▼ AI-Helper

In this work, VOx thin films have been deposited by DC magnetron sputtering method on glass substrate using argon and oxygen gases. We examined the effects of the post annealing temperature on the structural, optical, and electrical variations of VOx films. The films were annealed at temperatures ranging from 300 to $500^{\circ}C$ in steps of $100^{\circ}C$ using RTA equipment in air ambient. The thickness of the film and interface between film and substrate were observed by field emission scanning electron microscopy (FESEM). To analysis the structural properties of VOx with various annealng temperatures, we used XRD method. Also, we investigated the electrical and optical properties of VOx thin films using hall measurement, 4-point probe, and UV-visible methods.

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