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NTIS 바로가기한국전기전자재료학회 2004년도 춘계학술대회 논문집 반도체 재료 센서 박막재료 전자세라믹스, 2004 Apr. 24, 2004년, pp.9 - 12
이충근 (한국항공대학교 전자.정보통신.컴퓨터공학부) , 강영섭 (한국항공대학교 전자.정보통신.컴퓨터공학부) , 서현상 (한국항공대학교 전자.정보통신.컴퓨터공학부) , 홍신남 (한국항공대학교 전자.정보통신.컴퓨터공학부)
This paper investigated the stability of Ta-Mo alloy on thin gate dielectric. Ta-Mo alloy was deposited by using co-sputtering process after thermal growing of 3.4nm and 4.2nm silicon dioxide. When the sputtering power of Ta and Mo were 100W and 70W, respectively, the suitable work function for NMOS...
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