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제안 방법
- 1mm 두께의 soda-lime glass위에 SiC>2를 1000A 증착한 것을 이용해 ITO박막을 제작하였다. de magnetron sputtering 법으로 각각 380A, 700A으로 ITO를 증착하여, 초기 저항률이 대략 30, 80, lOOGQ/O)인 시료를 제작하였으며, 이를 ITO/glass, 열처리 된 ITO/glass와 PolyimidMTO/glass로 구분하였다. 열처리는 생산 공정과 동일한 조건으로 하기 위해 convection oven에서 Clear air 분위기 속에 그림 1과 같은 조건으로 270P에서 각각 열처리를 하였다.
- de magnetron sputtering 법을 이용하여 30, 80, 100 (0O 이하의 저항값을 목표로 시료를 제작하였으며, 배향막 인쇄 공정중의 IT0 박막의 저항률 중가 원인을 분석하기 위해 열처리 전 ITO/glass, 열처리 된 IT0/ glass, Myinide/ITCyglass 등으로 구분하여 구조적, 전기적, 광학적으로 분석하였다. 각각의 시료들 사이의 결정성 변화는 거의 찾아 볼 수 없었으며, 열처리 후 저항률의 중가와 광투과율의 감소 경향을 살펴 볼 수 있었다.
- 후에 대하여 UV- visible spectrophotometer로 300~1000 nm의 파장 범위에서 광 투과율을 측정한 것이다. 먼저 열처리되지 않은 ITO/glass의 기판에 대한 투과율을 측정하였으며, 이를 열처리된 ITO/glass의 박막 투과율에 대한 backgrounds. 사용하였다.
- 본 연구에서는 액정용 ITO 막에서 구동소자의 구조 및 하지의 재질에 의해 에칭특성이 우수한 비정질막이 요구됨에도 불구하고 실제의 생산공정 중유기 배향막 형성을 위해 이용되는 배향막 인쇄 공정에서 ITO 막이 결정화되어 저항률 및 에칭 특성의 재현성을 얻지 못함을 알고, de sputtering 법을 이용해 시료를 제작하였으며, 구조적, 전기적, 광학적으로 분석하였다.
- de magnetron sputtering 법으로 각각 380A, 700A으로 ITO를 증착하여, 초기 저항률이 대략 30, 80, lOOGQ/O)인 시료를 제작하였으며, 이를 ITO/glass, 열처리 된 ITO/glass와 PolyimidMTO/glass로 구분하였다. 열처리는 생산 공정과 동일한 조건으로 하기 위해 convection oven에서 Clear air 분위기 속에 그림 1과 같은 조건으로 270P에서 각각 열처리를 하였다. 이들 시료의 결정성 확인을 위해 XRD(X-ray diffraction)를 사용하고, 광학적 투과율을 측정하기 위해 HITACHI 사의 spectrophotometer 를 사용하였다.
- 열처리는 생산 공정과 동일한 조건으로 하기 위해 convection oven에서 Clear air 분위기 속에 그림 1과 같은 조건으로 270P에서 각각 열처리를 하였다. 이들 시료의 결정성 확인을 위해 XRD(X-ray diffraction)를 사용하고, 광학적 투과율을 측정하기 위해 HITACHI 사의 spectrophotometer 를 사용하였다. 또한, 박막의 저항률 측정에는 4-point probe를 사용하였다.
- 대하여 ITO/glass의 열처리 전 . 후에 대하여 UV- visible spectrophotometer로 300~1000 nm의 파장 범위에서 광 투과율을 측정한 것이다. 먼저 열처리되지 않은 ITO/glass의 기판에 대한 투과율을 측정하였으며, 이를 열처리된 ITO/glass의 박막 투과율에 대한 backgrounds.
대상 데이터
- 본 연구에서는 ASAHI사의 1.1mm 두께의 soda-lime glass위에 SiC>2를 1000A 증착한 것을 이용해 ITO박막을 제작하였다. de magnetron sputtering 법으로 각각 380A, 700A으로 ITO를 증착하여, 초기 저항률이 대략 30, 80, lOOGQ/O)인 시료를 제작하였으며, 이를 ITO/glass, 열처리 된 ITO/glass와 PolyimidMTO/glass로 구분하였다.
이론/모형
- 이들 시료의 결정성 확인을 위해 XRD(X-ray diffraction)를 사용하고, 광학적 투과율을 측정하기 위해 HITACHI 사의 spectrophotometer 를 사용하였다. 또한, 박막의 저항률 측정에는 4-point probe를 사용하였다.
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