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최대 증착을 위한 20kW 플라즈마 스퍼터용 임펄스 전원 장치
Development of 20kW Plasma Sputtering Impulse Power Supply for Maximum Coating Ability 원문보기

전력전자학회 2010년도 하계학술대회 논문집, 2010 July 06, 2010년, pp.516 - 517  

최병준 (인천대학교 전기공학과) ,  반정현 (인천대학교 전기공학과) ,  김동성 (이엔테크놀로지(주)) ,  한희민 (이엔테크놀로지(주)) ,  김준석 (인천대학교 전기공학과)

초록
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최근에 들어 반도체 및 디스플레이 분야를 포함하여 태양전지와 같은 신재생 에너지 분야에서 고품질, 고기능성 박막이 많이 사용되고 있으며, 이에 따라 플라즈마 제어기술 및 코팅 공정기술 개발에 대한 요구가 증가하고 있다. 산업기술이 고도화됨에 따라 다양한 계열의 박막이 필요하게 되었고 고밀도의 플라즈마를 공급하고 안정된 공정을 진행하기 위해 순시적인 플라즈마 제어가 가능한 임펄스 전원장치에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 기존의 임펄스 전원장치에서는 플라즈마 발생에 필요한 고전압 발생만 관점을 두고 있으나 플라즈마의 발생뿐이 아니라 증착율이 높은 상태로 유지되어야 실제 공정의 효율이 증가한다. 본 연구에서는 증착 효율을 극대화하기 위하여 별도의 저압회로를 부가한 복합형 임펄스 전원장치를 제안한다.

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구에서는 마그네트론 스퍼터 시스템에서 증착율을 획기적으로 개선시킬 수 있는 새로운 형태의 복합형 임펄스 전원 장치를 제안하였다 제안된 전원장치에서는 임펄스 출력부와 별도로 저압출력부를 장착하여 이온의 가속에 필요한 전계를 인가함으로써 증착률을 개선하는 방식을 제시하였다. 아직 완전한 단일형태의 전원장치로 구성되어 지지 않았으나 조만간 완전한 복합형 전원장치로 재구성될 예정이며 본 시스템의 제품화가 이루어지면 코팅 분야의 획기적인 발전과 유관 국가 경쟁력에 활력을 불어넣을 수 있을 것으로 기대된다.
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