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NTIS 바로가기한국진공학회 2010년도 제39회 하계학술대회 초록집, 2010 Aug. 18, 2010년, pp.124 - 124
Lee, Su-Jin (성균관대학교 신소재 공학부 반도체및 나노시스템 연구실(SNL))
Currently, extreme ultraviolet lithography (EUVL) is being investigated for next generation lithography. EUVL is one of competitive lithographic technologies for sub-22nm fabrication of nano-scale Si devices that can possibly replace the conventional photolithography used to make today's microcircui...
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