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NTIS 바로가기한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집, 2012 Feb. 08, 2012년, pp.492 - 492
Lee, Hyo-Chang (Department of Electrical Engineering, Hanyang University) , Chung, Chin-Wook (Department of Electrical Engineering, Hanyang University)
RF biased inductively coupled plasma (ICP) has been widely used in various semiconductor etching processes and laboratory plasma researches. However, almost researches for the RF bias have been focused on the controls of dc self-bias voltages, even though the RF bias can change plasma parameters, su...
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