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AISI D2 Steel의 이온질화시 Multilayer의 생성에 의한 표면강화 원문보기

한국진공학회 2013년도 제44회 동계 정기학술대회 초록집, 2013 Feb. 18, 2013년, pp.302 - 302  

조균택 (한국생산기술연구원 인천지역본부 열표면기술센터) ,  손석원 (한국생산기술연구원 인천지역본부 열표면기술센터) ,  이영국 (한국생산기술연구원 인천지역본부 열표면기술센터) ,  이원범 (한국생산기술연구원 인천지역본부 열표면기술센터)

초록
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본 연구는 이온질화시 self-sputtering에 의한 AISI D2 소재의 표면경화에 대한 연구를 진행하였다. 이를 위해 이온질화시 질소가스와 아르곤 가스를 이용해 이온질화를 수행하였다. 이에 대한 결과는 optical micrograph (OM), scanning electron microscopy (SEM), X-ray diffraction(XRD), transmission electron microscopy (TEM)를 이용해 분석하였다. 실험결과, 소재의 경도는 570 HV에서 약 1470 HV까지 상승하였다. 극표면에 CrN-enriched layer의 형성 및 극표면 아래층에서 질소의 과포된 화합물층을 관찰할 수 있었다. 표면경화는, 극표면에 CrN-enriched layer의 형성과, 아래 N의 과포화에 의한 ${\gamma}$?autenite) phase, 그리고 diffusion layer의 형성에 의한 multi-layer의 형성으로 표면에 강화에 기여한것으로 사료된다.

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