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[국내논문] RF magnetron sputtering에 의한 PTFE 필름의 공정변수에 따른 특성 변화에 관한 연구
Process parameter dependent property studies on PTFE films prepared by RF magnetron sputtering 원문보기

한국표면공학회 2012년도 춘계학술발표회 논문집, 2012 May 31, 2012년, pp.197 - 198  

송영식 (한국생산기술연구원 뿌리산업연구부문) ,  이효수 (한국생산기술연구원 뿌리산업연구부문) ,  김종렬 (한양대학교 금속재료공학과)

초록
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PTFE(polytetrafluoroethylene) 타겟을 RF 스퍼터링에 의하여 Si 기판과 슬라이드 글라스에 코팅하였다. PTFE의 기초 실험조건으로 타겟 건 파워, 공정시간, 압력 및 바이어스 파워를 변화시켰다. PTFE 필름의 특성은 조건별 두께를 비교하였고, 분광광도계에 의한 투과도를 측정하였다. PTFE의 발수 특성과 스퍼터링 공정 조건을 확인하고자 접촉각 측정을 실시하였다. 타겟 건의 파워 및 시간에 따라 증착속도의 차이가 있었으며, 광학적인 투과도에서도 변화가 있음을 알 수 있었다. 발수특성을 나타내는 PTFE의 스퍼터링에 의한 접촉각 측정을 통해 다양한 조건별 접촉각 특성을 확인하였다.

AI 본문요약
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문제 정의

  • 지금까지는 주로 후막으로 두껍게 코팅되어 사용되어 왔으나 고기능성과 고발수성의 요구가 커지면서 고진공의 환경에서 코팅되는 스퍼터링 방식으로 적용되는 것도 검토되고 있다. 본 연구에서는 테플론의 기본적인 스퍼터링 공정 특성과 다양한 물리적, 광학적 특성 등을 살펴봄으로써 추후 산업 제품 적용에 대한 기초 연구를 수행하였다.
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