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선형이온소스 및 플라즈마 보조 마그네트론 스퍼터링을 통한 고품위 Cu 박막 형성 기술
Preparation of High Quality Cu Thin Film using Linear Ion Source and Plasma Assisted Magnetron Sputtering Method 원문보기

한국표면공학회 2015년도 춘계학술대회 논문집, 2015 May 07, 2015년, pp.41 - 42  

임경아 (재료연구소 표면기술연구본부 플라즈마공정연구실) ,  정성훈 (재료연구소 표면기술연구본부 플라즈마공정연구실) ,  이승훈 (재료연구소 표면기술연구본부 플라즈마공정연구실) ,  김병준 (재료연구소 표면기술연구본부 플라즈마공정연구실) ,  김도근 (재료연구소 표면기술연구본부 플라즈마공정연구실)

초록
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폴리머 기판상 밀착력 향상과 증착되는 금속 박막의 전기적 특성 향상에 대한 연구를 수행하였다. 박막의 밀착력 향상을 위해 선형이온소스를 이용하여 폴리머 기판의 표면에너지 증대를 도모하였다. 폴리머 기판의 표면에너지 제어를 통해 증착된 박막의 밀착력 평가는 테이프 테스팅법을 적용하였고 전처리 전후 밀착력이 향상됨을 확인하였다. 또한 일반적인 마그네트론 스퍼터링의 경우 상온에서 증착되는 금속 박막의 결정성이 낮다는 한계점을 극복하기 위해, 플라즈마 보조 마그네트론 스퍼터링 방법을 적용하여 증착되는 박막의 결정성 향상을 통해 증착된 Cu 박막의 전기적 특성 향상을 얻을 수 있었다. 박막의 결정성 향상을 통해 전기적 특성은 10% 이상 향상됨을 확인하였다.

AI 본문요약
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문제 정의

  • 기존 기체 방전 플라즈마를 통한 표면처리의 경우 단순한 표면개질 수준에 머물러 효과가 미비하거나, 너무 높은 에너지 조사에 따른 폴리머 기판의 표면구조 변형에 따른 밀착력 확보에 어려움이 존재하였다. 따라서 본 연구에서는 폴리머 기판상 밀착력 향상을 위해 본 연구그룹에서 개발한 선형이온소를 활용하여 폴리머 기판의 표면구조 및 표면에너지를 제어하고 이를 통해 밀착력 향상뿐만 아니라 증착된 Cu 박막의 전기적 특성 향상을 도모하였다. 특히, 기존 마그네트론 스퍼터링의 단점인 상온에서 증착되는 박막의 결정성 제어의 어려움을 극복하기 위해 플라즈마 보조 마그네트론 스퍼터링 방법을 적용하였으며, 이를 통해 전기적 특성이 10%이상 향상된 고품위 Cu 박막을 형성 할 수 있었다.
  • 폴리머 기판상 밀착력 향상과 증착되는 금속 박막의 전기적 특성 향상에 대한 연구를 수행하였다. 선형이온소를 활용하여 폴리머 기판의 표면구조 및 표면에너지를 제어하고 이를 통해 밀착력 향상뿐만 아니라 증착된 Cu 박막의 전기적 특성 향상이 가능함을 확인하였다.
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