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TFT 채널 층 IGZO박막의 Yttrium 도핑에 따른 전기적 특성 개선
Enhanced electrical property of Y doped IGZO thin film for TFT channel layer 원문보기

한국표면공학회 2015년도 춘계학술대회 논문집, 2015 May 07, 2015년, pp.92 - 93  

김도영 (부산대학교 재료공학과) ,  송풍근 (부산대학교 재료공학과)

초록
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빠른 응답속도를 요구하는 고품질 대면적 디스플레이의 박막형 트랜지스터 적용에 있어서 비정질 IGZO 박막에 대한 많은 연구가 진행되어왔으나, 불순물 도입에 의한 5성분계 IGZO 박막의 전기적 특성 향상에 대한 연구는 거의 보고 되지 않고 있다. 따라서 이번 연구에서는 magnetron co-sputtering 법으로 50 nm 두께를 가지는 yttrium이 도핑된 5성분계 Y-IGZO박막과 Y-IGZO/IGZO 하이브리드막을 제조하여 그 전기적, 광학적 특성 및 표면 조도를 관찰 하였다.

AI 본문요약
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문제 정의

  • 또한, IGZO 박막 제조 시 박막의 안정화를 위해 열처리과정은 필수적이다. 하지만 본 연구에서는 열처리를 진행하지 않고 Y-IGZO의 안정성 개선 여부를 보기 위하여 20일 동안 상온에서 방치하여 그 전기적 특성변화를 관찰하였다. Y2O3 타깃에 가해지는 RF Power가 증가함에 따라 IGZO 박막의 캐리어는 감소하였고 이동도 또한 감소하였다.
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