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제안 방법
- RF 파워는 100 W 로 유지하였다. 증착된 박막의 구조적인 특성은 X-ray diffraction (XRD), Scanning electron microscopy (SEM)을 통해 분석 하였고, 열적 특성은 High temperature XRD (HT-XRD)을 통하여 관찰 하였으며, 광학적 특성은 UV-Vis-Nir 장비로 측정하였다.
대상 데이터
- , NiO 박막을 증착하였다. RF magnetron sputtering 법의 경우 WO3 , NiO 단일 타겟을 사용하였으며, working pressure는 약 3 mTorr)에서 증착하였다. RF 파워는 100 W 로 유지하였다.
- 본 연구에서는 50 mm X 50 mm 크기의 non-alkali 유리기판 위에 RF magnetron sputtering 법을 사용하여 다양한 조건하에 WO3 , NiO 박막을 증착하였다. RF magnetron sputtering 법의 경우 WO3 , NiO 단일 타겟을 사용하였으며, working pressure는 약 3 mTorr)에서 증착하였다.
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